Measurements of the depth profile of the refractive indices in oxide films on SiC by spectroscopic ellipsometry

分光エリプソメータによるSiC表面酸化膜の屈折率の深さ方向分布の測定

飯田 健*; 富岡 雄一*; 吉本 公博*; 緑川 正彦*; 塚田 裕之*; 折原 操*; 土方 泰斗*; 矢口 裕之*; 吉川 正人; 伊藤 久義; 石田 夕起*; 吉田 貞史*

Iida, Takeshi*; Tomioka, Yuichi*; Yoshimoto, Kimihiro*; Midorikawa, Masahiko*; Tsukada, Hiroyuki*; Orihara, Misao*; Hijikata, Yasuto*; Yaguchi, Hiroyuki*; Yoshikawa, Masahito; Ito, Hisayoshi; Ishida, Yuki*; Yoshida, Sadafumi*

SiCは高周波、高パワー,高温,放射線照射下等、過酷な環境下で動作する素子用材料として優れた物性を持つ。また熱酸化で表面にSiO層が形成されMOS構造が作製できるが、酸化層/SiC界面には欠陥が多いため、物性値から期待される性能が得られない。そこで本研究では、分光エリプソメーター(SE)を用いて、その界面欠陥の発生原因を光学的に追究した。試料には、SiC基板を乾燥酸化して得た60nm程度の酸化膜を用いた。これをHF溶液を用いて斜めにエッチングし、酸化膜の光学的周波数分散特性を、膜厚をパラメータとして測定した。得られた値は、セルマイヤーの式を用いたカーブフィッティング法により、屈折率に変換した。その結果、SiC上の酸化層の見かけの屈折率は、Si酸化膜より小さくなった。また、屈折率は酸化膜厚の減少と共にも小さくなり、膜厚が1nm程度では1にまで近づいた。この屈折率の膜厚依存性は、酸化層がSiO層と高屈折率界面層から成ると仮定することで説明できる。このことから、酸化層/SiC界面には屈折率の高い界面中間層が存在し、それらが界面欠陥を発生させていると推定された。

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