JT-60U用その場ボロン化処理装置により作製したボロン膜中の水素分析

Measurements of hydrogen contents in boron films produced during boronization in JT-60U

西堂 雅博; 柳生 純一; 山本 春也; Goppelt-Langer, P.*; 青木 康; 竹下 英文; 楢本 洋

Saido, Masahiro; Yagyu, Junichi; Yamamoto, Shunya; Goppelt-Langer, P.*; Aoki, Yasushi; Takeshita, Hidefumi; Naramoto, Hiroshi

JT-60Uで実施した第4回その場ボロン化処理(ボロン・コーティング)で作製したボロン膜中の水素濃度分析を、高崎研・高機能材料第2研究室と共同で行った。分析法として、Nを用いた共鳴核反応法及び高エネルギーO及びNiを使用した反跳粒子検出法を採用した。前者の場合には、膜厚が厚いと深さ分布を得るためには時間がかかること、また、軽水素と重水素の分離測定は、困難であることが判明した。後者の場合には、膜厚が厚く(~1m)ても、深さ分布を得るのに短時間で良いこと、また、軽水素と重水素の分離測定が可能であること、さらには、30MeVNiを使用した場合には、母材元素であるボロンの反跳スペクトルを得ることができるため、水素の定量がボロン濃度を内部標準として使用できる利点のあることが判明した。

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