C doped CFC under high particle flux with low energyC添加CFC材のスパッタリング実験Nakamura, Kazuyuki; Dairaku, Masayuki; Akiba, Masato; Okumura, Yoshikazu
ITER用プラズマ対向材料として、高熱伝導炭素繊維強化複合材(CFC材)が有望視されているが、この材料はマトリックスと呼ばれる部分の損耗(スパッタリング)の大きいことが従来の研究で明らかとなっている。そこで、スパッタリングの抑制を目的としてマトリックス部に炭化ホウ素(BC)を添加した材料を新たに開発した。本発表では、このBC添加CFC材のスパッタリング特性を低エネルギー高粒子束イオン照射装置(SLEIS)を用いて調べた結果について報告する。SLEISによる照射は、水素イオンで50eV、~2
10
個/m
・Sの粒子束条件下で行った。その結果、重量変化から求めたスパッタリング収率にBC添加効果は見られなかったものの、電子顕微鏡による表面観察ではマトリックス部の損耗抑制効果が確認され、ITER用プラズマ対向材料としての見通しが得られた。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 241-243 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.1142 - 1146 |
発行年月 |
: | 1997/00 |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 1996/06 |
開催都市 |
: | France |
開催国 |
: | |
キーワード |
: | Sputtering; PFC; PFM; CFC; Boron Carbide (B |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：60.17 分野：Materials Science, Multidisciplinary |
Altmetrics |
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