Measurement of a time dependent spatial beam profile of an RF-driven H ion source

高周波駆動負水素イオン源のビームプロファイルの時間変化の測定

和田 元*; 神藤 勝啓   ; 柴田 崇統*; 笹尾 眞實子*

Wada, Motoi*; Shinto, Katsuhiro; Shibata, Takanori*; Sasao, Mamiko*

イオンは、低周波電磁誘導がそのターゲットとなるイオンを含む荷電粒子の輸送を駆動するプラズマシースを介してイオン源から引き出される。負水素イオン(H)生成のためのイオン源ではMHz帯の高周波交流源がプラズマを励起している。狭い入口のスリットを持った高速ビーム電流計測システムを用いることで、2MHzの高周波源で行動したイオン源から引き出したHビームのAC成分の強度についての空間分布の調査を行うことができた。ビーム揺動の空間分布は、ビーム中心では周辺部に比べてより小さい揺動であることが分かった。

The ions are extracted from an ion source through a plasma sheath where a low frequency electromagnetic induction drives transport of charged particles including the target ions. High frequency alternating current commonly excites plasmas in sources for negative hydrogen (H) ions at a frequency in the MHz range. A high-speed beam current monitor system coupled to a narrow entrance slit enabled the investigation of the special distribution of the AC component intensity of the H ion beam extracted from an ion source driven by a 2 MHz radio frequency (RF) power. The distribution showed a smaller oscillation of the beam at the center.