Minakawa, Nobuaki; Morii, Yukio; Shimojo, Yutaka
残留応力測定では、ひずみの測定精度が10
nm以下を要求される。高精度で測定するには、装置の分解能が良いことが重要である。特にモノクロメーター結晶が全面積に渡って均質な
d/dが必要であり、そのため、完全結晶に曲げ応力を負荷し均質なd/dを実現した。またモノクロ中性子ビームを試料位置で高い強度にするため、曲げによる水平方向の集光、及び複数枚の結晶を用い各結晶の抑角を試料位置に集光させることにより、全結晶に入射した中性子ビームを一点に集め中性子強度の増強に成功した。複合材料などの多数の回折ピークが重なり合うような試料においても、高分解能、高精度で残留応力を測定できる装置である。
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使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | Proceedings of 6th International Conference on Residual Stressess (ICRS-6), Vol.2 |
巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.1107 - 1111 |
発行年月 |
: | 2000/07 |
発表会議名 |
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開催年月 |
: | 2000/07 |
開催都市 |
: | Oxford |
開催国 |
: | U.K. |
キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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Altmetrics |
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