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Bulanov, S. V.; Mourou, G.*; 田島 俊樹
Physics Letters A, 372(27-28), p.4813 - 4816, 2008/06
被引用回数:6 パーセンタイル:43.23(Physics, Multidisciplinary)高強度レーザーによりプラズマ中に生成されたウェーク場により、高エネルギー電子ビームの切り出しが可能である。この方法により生成される極短バンチ電子ビームは、フェムト・アト秒X線発生や高速度分解ラジオリシス,高エネルギー粒子加速などのさまざまな応用に有効である。
Esirkepov, T. Z.; Borghesi, M.*; Bulanov, S. V.; Mourou, G.*; 田島 俊樹
Physical Review Letters, 92(17), p.175003_1 - 175003_4, 2004/04
被引用回数:878 パーセンタイル:99.76(Physics, Multidisciplinary)超高強度レーザー(10W/cm)と薄膜(m)との相互作用による相対論的高密度イオンビーム生成について、理論的検討並びに3次元PIC(Particle-In-Cell)シミュレーションによる検証を行い、光圧によるイオン加速が効率的に生じる結果、イオンエネルギーはGeV領域に達することを示す。
西村 昭彦; 大図 章; 杉山 僚; 丸山 庸一郎; 有澤 孝; 宅間 宏; Nees, J.*; Biswal, S.*; Mourou, G.*; 大和田 進*; et al.
Technical Digest on CLEO'98, P. 177, 1998/05
レーザー上準位からの励起がなく量子効率が高い次世代超高出レーザー材料としてイッテルビウムガラスがある。30J/cmを超える高い飽和フルエンスを利用し、1.03ミクロンを中心とした幅広いバンド幅を活用して小型のレーザーシステムが可能となる。一方、この特性を最大限活かすためには半導体レーザー直接励起が必要となるが現時点ではコストの問題がある。このため、チタンサファイヤの長尺ロッドを用いてフラッシュランプ励起による高エネルギー励起光源を開発した。出力は793nmで12ジュール、920nmで6ジュールの高エネルギーパルスを得ることができた。発表ではレーザーの構造と発振特性について述べる。