1998年度

セラミックス

26804
X線異常分散を利用した薄膜セラミックスの構造研究
水木純一郎
セラミックス　33（8）, p.620-624（1998）;（JAERI-J 15774）

　放射光X線を利用したセラミックス材料に関する研究例を紹介する．特に放射光の特長の1つである連続エネルギー光の性質を生かして，X線異常分散を使った研究方法及び高誘電体薄膜への応用例を示す．1つは，Ta₂O₅，他の1つは，SrTiO₃薄膜で，いずれも，DRAMの容量膜として期待されている物質である．これらの局所構造と，誘電特性との関係を議論し，放射光の材料研究への有効性を示す．