2003年度

放射光

310865
DNA及びそのサイト選択的励起による損傷の分光学的研究
藤井健太郎*
放射光 16(3), p.151-158(2003) ; (JAERI-J 20358)

　本研究では高輝度光源からの単色軟X線を用いて，まず，DNA構成塩基の窒素及び酸素のNEXAFSスペクトルの測定を行った．それによると，塩基種の違いによる電子状態の違いによってDNA中で，塩基を選択的に励起する，「塩基選択的励起」の可能性を見いだすことができた．また，NEXAFSスペクトルの入射光偏光角度依存性より，adenine, guanine, uracil薄膜は分子が配向構造をもつことが明らかになった．さらに，軟X線によるDNA損傷のメカニズムについて探るために，光照射によって生じたイオンを検出するための，装置を立ち上げ，いくつかのDNA構成分子について，酸素K殻励起領域での脱離イオン観測を行い，直接励起によって生じるDNA損傷のメカニズムについての有力な知見を得ることができた．