2003年度

Surface and Coatings Technology

310774
Heat stability of Mo/Si multilayers inserted with compound layers
石野雅彦 ; 依田修 ; 竹中久貴* ; 佐野一雄* ; 小池雅人
Surface and Coatings Technology 169-170(1-3), p.628-631(2003) ; (JAERI-J 20287)

　Mo/Si多層膜は，波長13nm近傍の軟X線領域において，高い直入射反射率を示すが，300℃以上の温度においては，多層膜界面での原子拡散やSi化合物の生成により，多層膜構造が劣化し，反射率が減少する．そこで我々は，熱による原子の拡散と化合物の生成を抑制し，Mo/Si多層膜の耐熱性を向上させることを目的として，イオンビームスパッタ法を用いて，界面にSiO₂層を挿入したMo/Si多層膜を成膜した．耐熱性評価のため，多層膜試料に対して，真空加熱炉を用いて600℃までの加熱処理を行った．そして，CuKα₁線を用いたX線反射率測定を行い，Mo/Si多層膜の構造評価を行った．その結果，従来のMo/Si多層膜は，350℃以上の温度で周期構造が大きく劣化したのに対して，SiO₂層を挿入したMo/Si多層膜の構造変化は小さく，耐熱性の向上が確認された．また，軟X線反射率測定の結果からも，SiO₂層の挿入は，Mo/Si多層膜の耐熱性に有効であることを確認した．