2003年度

Journal of Membrane Science

310644
Stability of a silica membrane prepared by CVD using γ- and α-alumina tube as the support tube in the Hi-H₂O gaseous mixture
Hwang, G.* ; Kim, J.* ; Choi, H.* ; 小貫薫
Journal of Membrane Science 215(1-2), p.293-302(2003) ; (JAERI-J 20158)

　熱化学水素製造法ISプロセスへの応用を目的として，CVD法によって作製したシリカ系水素分離膜のHi-H₂O気相環境における安定性を調べた．平均細孔径10nmのγ-アルミナ多孔体，また，平均細孔径100nmのα-アルミナ多孔体を基膜として，TEOSを前駆体とするCVDによって，シリカ膜を作製し，450℃，1気圧の条件下で，Hi-H₂O混合ガス雰囲気に約350時間暴露した．CVD条件を変えて数種の膜を作製したが，多くの膜は，暴露時間の経過とともに水素透過速度の増大と水素選択性の低下を示した．しかし，αアルミナを基体とする膜は，γアルミナを基体とする膜に比べて透過特性の変化が少なく，比較的高い安定性を示した．