分子イオン照射によるSiクラスター放出

Si cluster emission by molecular ion irradiation

「放射線」であるイオンビームを固体表面に照射した場合、その照射条件(放射線の質)によって表面における励起形状が大きく変化すると同時に生じる現象も変化する。本稿では、分子イオン照射により表面励起の形状を変化させ、通常の原子イオン照射に比べ極めて顕著なSiクラスター生成を見いだした著者らの研究成果を中心に紹介した。特にイオン照射種,照射エネルギーとクラスター生成との関係,表面励起領域の変化,放出イオンの運動エネルギー分布から考えられるクラスターの生成過程などについて放射線と物質との相互作用の視点から解説した。なお本稿は日本放射線化学会からの依頼稿である。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	放射線化学
巻	:	2001
号	:	71
ページ数	:	p.17 - 21
発行年月	:	2001/03
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	クラスター; 分子イオン; 三次元ナノ構造; 表面

特許データ	:
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論文URL	:	http://ci.nii.ac.jp/naid/10010163360
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : A20000528
抄録集掲載番号 : 290897
論文投稿番号 : 18415

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