Electronic sputtering of oxides by high energy heavy ion impact

高エネルギー重イオンによる酸化物の電子スパッタリング

Matsunami, Noriaki*; Sataka, Masao; Iwase, Akihiro

原研タンデム加速器からの高エネルギー重イオンを酸化物に照射し、電子励起によるスパッタリング収量を測定した。照射試料はSrCeO $_{3}$ とSiO $_{2}$ を用いた。スパッタリング収量は炭素薄膜法を用いて測定した。スパッタリング収量は弾性散乱カスケードによる計算値と比べて、どちらの試料も約1000倍大きいことがわかった。また、収量は電子的阻止能Seに対してSe $^{n}$ の形で表せ、は2-3であることがわかった。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
巻	:	193
号	:	1-4
ページ数	:	p.830 - 834
発行年月	:	2002/01
発表会議名	:	19th International Conference on Atomic Collisions in Solids (ICACS-19)
開催年月	:	2001/07
開催都市	:	Paris
開催国	:	France
キーワード	:	電子励起; スパッタリング; SrCeO $_{3}$ ; 重イオン

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0168-583X(02)00912-6
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：83.24 分野：Instruments & Instrumentation
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登録番号 : B20010551
抄録集掲載番号 : 301052
論文投稿番号 : 19489

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