Computational studies on ion source plasmas of the neutral beam injection system

NBI装置のイオン源プラズマに関する数値解析

柏木 美恵子; 井門 俊治*; 奥村 義和

Kashiwagi, Mieko; Ido, Shuji*; Okumura, Yoshikazu

NBIシステムのイオン源装置において、フィラメントから熱電子放出される電子の軌道を追跡している。フィラメント周りの陰極で加速された電子は、ガスを電離し、プラズマ放電の種となる。そのためこれらの高速電子の軌道及び電離衝突点分布の解析がプラズマ生成、分布の観点から重要となっている。本研究ではフィラメントからの高速電子を追跡している。装置モデルにはJT-60U用負イオン源装置を用いた。フィラメント近傍では電界を仮定し、電子は電界によりエネルギーを得ている。ここでは、まずフィラメント電流を変えたときの電子放出を調べた。次に装置内のドリフトについて解析した。また電子と水素ガスとの衝突を考慮し、イオンの生成点の分布について報告する。

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