Recent studies of single-event phenomena in devices using the heavy-ion microbeam at JAERI

原研における重イオンマイクロビームを用いた最近のシングルイベント現象に関する研究

平尾 敏雄; Laird, J. S.; 森 英喜; 小野田 忍; 伊藤 久義

Hirao, Toshio; Laird, J. S.; Mori, Hidenobu; Onoda, Shinobu; Ito, Hisayoshi

シングルイベント発生機構の解明を目的として、TIARA照射施設のタンデム加速器に設けられている重イオンマイクロビームを用い、重イオン入射により半導体に発生する電荷の伝搬挙動を調べている。この研究の一環として、シリコンpn接合ダイオード及びSOIダイオードに15MeVの炭素及び酸素イオンを照射し、発生するシングルイベント過渡電流を計測した。イオンで誘起される電荷の空乏層内での収集(ドリフト成分)と空乏層外での収集(ドリフト及びファネリング成分)とを比較した結果、ドリフト成分による収集時間は空乏層外での収集時間の半分であることを見出した。SOIダイオードにおいては、収集電荷がトップシリコンの厚さに依存することなどを明らかにしシングルイベントの機構解明に要する基礎データを蓄積した。さらに、イオン入射角度及び照射試料温度と収集電荷との関係,電荷収集に寄与する電荷移動時間に関する最近の成果を報告する。

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