使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 216 |
号 |
: | 1-4 |
ページ数 |
: | p.388 - 394 |
発行年月 |
: | 2003/06 |
発表会議名 |
: | 4th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces |
開催年月 |
: | 2002/10 |
開催都市 |
: | Karuizawa |
開催国 |
: | Japan |
キーワード |
: | Real Time in-situ; Si(0 0 1); O Gas; Thermal Oxidation; Synchrotron Radiation; Photoemission Spectroscopy |
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InCites™ |
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パーセンタイル:46.02 分野:Chemistry, Physical |
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