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Morphology evolution of thin Ni film on MgO(100) substrate

MgO(100)基板上に形成したニッケル薄膜の厚さに依存した形態変化

Lin, C.; Xu, Y. H.; 楢本 洋; Wei, P.; 北澤 真一; 鳴海 一雅

Lin, C.; Xu, Y. H.; Naramoto, Hiroshi; Wei, P.; Kitazawa, Shinichi; Narumi, Kazumasa

Ni薄膜を薄膜厚さをパラメータとして400度でMgO(100)上に形成し、原子間力顕微鏡により形態形成過程を評価した。その結果、約1nm厚まではNiは島状構造になること、及び2.5nmから7.5nmあたりまで、同一径のピンホールが規則的に配列することを見いだした。このような構造の発展の原因は弾性的な歪エネルギーであり、10nmのピンホール構造はとらなかった。

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パーセンタイル:42.15

分野:Physics, Applied

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