Morphology evolution of thin Ni film on MgO(100) substrate

MgO(100)基板上に形成したニッケル薄膜の厚さに依存した形態変化

Lin, C.; Xu, Y. H.; 楢本洋; Wei, P.; 北澤真一; 鳴海一雅

Lin, C.; Xu, Y. H.; Naramoto, Hiroshi; Wei, P.; Kitazawa, Shinichi; Narumi, Kazumasa

Ni薄膜を薄膜厚さをパラメータとして400度でMgO(100)上に形成し、原子間力顕微鏡により形態形成過程を評価した。その結果、約1nm厚まではNiは島状構造になること、及び2.5nmから7.5nmあたりまで、同一径のピンホールが規則的に配列することを見いだした。このような構造の発展の原因は弾性的な歪エネルギーであり、10nmのピンホール構造はとらなかった。

no abstracts in English

使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Physics D; Applied Physics
巻	:	35
号	:	15
ページ数	:	p.1864 - 1866
発行年月	:	2002/08
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Ni; MgO; AFM; Morphology; Film

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1088/0022-3727/35/15/308
研究データの公開先DOI	:
使用施設	:
広報プレスリリース	:
論文解説記事 (成果普及情報誌)	:
受委託・共同研究相手機関	:

Access	:	- Accesses
Web of Science® Times Cited Count	:	被引用回数：評価・統計等のため最新の被引用回数を確認したい場合は、直接Web of Science®をご確認ください。 http://www.webofknowledge.com/wos
InCites™	:	パーセンタイル：40.88 分野：Physics, Applied
Altmetrics	:

登録番号 : A20020271
抄録集掲載番号 : 310938
論文投稿番号 : 20421

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.