not registered; Seguchi, Tadao; Tabata, Yoneho*
放射線架橋PTFEに生成されるフリーラジカルの挙動を調べ、架橋の特徴を解析した。架橋PTFEに
線を77K及び室温で真空中照射し、捕捉されるラジカルをESRで測定した。架橋PTFEに生成されるラジカルのESRスペクトルの強度は、未架橋のものに比べ数十倍も大きくなったが、そのスペクトルの分解能は、架橋密度の増大に伴って低下した。架橋PTFEに捕捉されるラジカルは室温でも比較的安定であるが、110
C前後の
分散で減衰した。これらのことから、架橋PTFEに捕捉されるラジカルの多くは、架橋により形成された非晶領域に捕捉されることが明らかになった。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 50 |
号 |
: | 6 |
ページ数 |
: | p.601 - 606 |
発行年月 |
: | 1997/00 |
キーワード |
: | ESR; Free Radicals; Crosslinked PTFE; G(R)-value; Amorphous; |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：96.84 分野：Chemistry, Physical |
Altmetrics |
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