Sharp hollow density profile with TVTS on ECRH JFT-2M plasma

TVTSによるECRH JFT-2Mプラズマの急激なホロー電子密度分布

Yamauchi, Toshihiko; Hoshino, Katsumichi; Kawashima, Hisato; Ogawa, Toshihide

JFT-2Mトカマクプラズマに電子サイクロトロン共鳴加熱(ECRH:Oモードの中心加熱、約250KW入射)を行った時、プラズマ中心にホローのある電子密度分布が初めてTVトムソン散乱装置によって測定された。周辺の分布は、中心領域からの粒子のポンプアウトと外からのガスパスの入射により増加している。このホロー化は時間とともに深くなり、約40ms後に飽和し、少々の温度減少があってもホロー比を一定に保っている。このホロー比はトムソン散乱信号のフィッテング曲線の誤差から生じているのではなく、電子加熱帯周辺の急激な温度勾配と強く関係している。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Physics Letters A
巻	:	246
号	:	6
ページ数	:	p.534 - 541
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:
開催年月	:
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キーワード	:	TVTS; ne分布; Te分布; ポンプアウト; スケール長; ECRH; FW; Oモード; ホロー分布; JFT-2M

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0375-9601(98)00534-9
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InCites™	:	パーセンタイル：15.76 分野：Physics, Multidisciplinary
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登録番号 : A19980117
抄録集掲載番号 : 270066
論文投稿番号 : 16042

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