X線異常分散を利用した薄膜セラミックスの構造研究

Structural studies on ceramic thin films by X-ray anomalous diffraction

放射光X線を利用したセラミックス材料に関する研究例を紹介する。特に放射光の特長の1つである連続エネルギー光の性質を生かして、X線異常分散を使った研究方法及び高誘電体薄膜への応用例を示す。1つは、Ta $_{2}$ O $_{5}$ 、他の1つは、SrTiO $_{3}$ 薄膜で、いずれも、DRAMの容量膜として期待されている物質である。これらの局所構造と、誘電特性との関係を議論し、放射光の材料研究への有効性を示す。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	セラミックス
巻	:	33
号	:	8
ページ数	:	p.620 - 624
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	X線異常分散; XAFS; セラミックス; 誘電体

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論文URL	:	https://ci.nii.ac.jp/naid/10002017101
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : A19980118
抄録集掲載番号 : 260804
論文投稿番号 : 15774

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