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Hollow density profile on electron cyclotron resonance heating JFT-2M plasma

電子・サイクロトロン共鳴加熱JFT-2Mプラズマにおけるホロー電子密度分布

山内 俊彦; 星野 克道; 川島 寿人; 小川 俊英; 河上 知秀; 椎名 富雄; 石毛 洋一*

Yamauchi, Toshihiko; Hoshino, Katsumichi; Kawashima, Hisato; Ogawa, Toshihide; Kawakami, Tomohide; not registered; not registered

JFT-2Mトカマクにおける電子サイクロトロン共鳴加熱プラズマで、電子密度分布がホロー化していることを初めて、TVトムソン散乱装置によって測定することができた。この時の電子サイクロトロン共鳴加熱パワー250KWで電子密度は1.2$$times$$10$$^{13}$$cm$$^{-3}$$であった。電子温度は逆に中心が加熱され、2.7keVで飽和していた。この原因として、スーパーサーマル電子によるもの、負磁気シェアによるもの、及び電子のドリフトによるもの等考えられた。ここでは、スーパーサーマル電子による電界で中心の電子密度がポンプアウトされるとして評価すると、密度の減少分は実験値を説明できた。

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パーセンタイル:18.91

分野:Physics, Applied

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