匂坂 明人*; 永島 圭介; 山極 満; 的場 徹; 宅間 宏*
Sagisaka, Akito*; Nagashima, Keisuke; Yamagiwa, Mitsuru; Matoba, Toru; not registered
高強度極短パルスレーザーを用いた光電界電離(OFI)による再結合型X線レーザーの場合、生成される電子のエネルギー分布は非マクスウェル分布となる。そのため、加熱機構を含む分布関数の時間変化を計算し、X線レーザーの反転分布生成に与える影響を定量的に評価する必要がある。本研究では、水素様ヘリウムに注目し利得の計算を行った。電子の分布関数については、電子-電子衝突による緩和過程を取り入れフォッカー・プランク方程式により計算した。この結果、緩和過程の影響が大きく、非マクスウェル性が抑制されてしまうことがわかった。しかしながら、入力レーザーのパルス幅を短くしていくことで(~10fs)最大12cm
の利得を得られることが示され、X線レーザーの発振の可能性が期待される。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 68 |
号 |
: | 4 |
ページ数 |
: | p.1221 - 1227 |
発行年月 |
: | 1999/04 |
キーワード |
: | Laser; Plasma; OFI; Electron Energy Distribution; Non-maxwellian; Recombination; Relaxation Process; Hydrogen-like Helium; Population Inversion Density |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：26.15 分野：Physics, Multidisciplinary |
Altmetrics |
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