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SF$$_{6}$$プラズマを用いた新しいイオン生成法

New ion generation method with SF$$_{6}$$ plasma

大越 清紀 ; 齋藤 勇一; 田島 訓

Okoshi, Kiyonori; Saito, Yuichi; Tajima, Satoshi

フリーマンイオン源で高融点物質のニオブ(Nb)、ボロン(B)及びシリコン(Si)等を容易にイオン化するために、化学的に安定なSF$$_{6}$$ガスと固体試料を用いた新しいイオン生成法を開発した。高融点物質の多くはフッ化物になると蒸気圧が上昇する。例えばBの蒸気圧は常温ではほとんどゼロであるが、BF$$_{3}$$になると10$$^{5}$$Pa以上になる。SF$$_{6}$$プラズマ法はプラズマ生成室内に固体試料を置き、SF$$_{6}$$プラズマにより固体試料のフッ化物を生成し、そのプラズマを得るものである。これにより得られたNb,B及びSiのイオンビーム強度は、従来法(Arプラズマ)と比較するとそれぞれ200倍、13倍及び7倍であった。このようにSF$$_{6}$$プラズマ法は高融点物質を効率良くイオン化し、大強度のビームを提供することを可能にした。

no abstracts in English

発表言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

化学と工業

巻

 :

52

号

 :

11

ページ数

 :

p.1409 - 1412

発行年月

 :

1999/11

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

イオン注入; フリーマンイオン源; SF$$_{6}$$; プラズマ; 高融点物質

特許データ

 :

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