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Design of imaging system for EUVL

EUVL(極端紫外光リソグラフィ)用イメージング装置の設計

木下 博雄*; 渡辺 健夫*; 小池 雅人; 波岡 武*

not registered; not registered; Koike, Masato; not registered

16Gbit DRAMの実現をめざし線幅0.1$$mu$$mで26mm$$times$$44mmの露光面積を可能とする縮小投影露光々学系を設計した。この設計の特長は大露光面積、低歪み、高密度露光にあり、非球面鏡3面、平面鏡1面を使用している。平面鏡はマスク及びウエハーの走査を容易とし、12$マ$スク及びウエハーを使用可能とするために必要となった。主な仕様は開口数0.1、縮小倍率1/5、MFTは5000本/mmで0.73である。この条件で波長13mmのインコヒーレント光を用い0.1$$mu$$mの解像が可能と予測される。5000本/mmでの焦点深度は1.5$$mu$$mである。ウエハー上での一回の露光面積は3.5mm幅、26mmの円弧状で、マスクとウエハーを同期移動させることにより最終的に26mm$$times$$44mmの露光面積を得る。さらに調整誤差、鏡のスロープ誤差等の解像に与える影響を考察した。

no abstracts in English

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