In situ observation of microstructural development during electron irradiation in Al $_{2}$ O $_{3}$ containing Cr $_{2}$ O $_{3}$ or TiO $_{2}$

Cr $_{2}$ O $_{3}$ やTiO $_{2}$ を添加したAl $_{2}$ O $_{3}$ の電子照射中の組織観察

not registered; Katano, Yoshio; Noda, Kenji

Al $_{2}$ O $_{3}$ (アルミナ)の照射によるスエリング性の改良のため、種々の添加元素の照射挙動に与える効果を検討した。純Al $_{2}$ O $_{3}$ では、973K以上の電子照射温度で、転位ループとキャビティが生成し、さらに、試験片表面にAl析出物が現れた。TiO $_{2}$ 添加Al $_{2}$ O $_{3}$ 照射挙動は、純Al $_{2}$ O $_{3}$ と同様であったが、Cr $_{2}$ O $_{3}$ を添加したAl $_{2}$ O $_{3}$ では、転位ループやキャビティは生成するが、純Al $_{2}$ O $_{3}$ と比較して、成長速度が著しく小さく、結果としてスエリングが抑制された。また、表面のAl析出も形成されなかった。これはCr $_{2}$ O $_{3}$ 添加によって照射で導入された格子間原子の移動度が低下することに起因することがわかった。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Nuclear Materials
巻	:	258-263
号	:
ページ数	:	p.1831 - 1835
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:	8th Int. Conf. on Fusion Reactor Materials (ICFRM-8)
開催年月	:	1997/10
開催都市	:	Sendai
開催国	:
キーワード	:	酸化アルミニウム; 電子線照射; 微細組織; 照射損傷; セラミックス; 電子顕微鏡

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0022-3115(98)00146-9
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：15.03 分野：Materials Science, Multidisciplinary
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登録番号 : B19971053
抄録集掲載番号 : 270757
論文投稿番号 : 16570

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In situ observation of microstructural development during electron irradiation in AlO containing CrO or TiO

CrOやTiOを添加したAlOの電子照射中の組織観察

In situ observation of microstructural development during electron irradiation in Al $_{2}$ O $_{3}$ containing Cr $_{2}$ O $_{3}$ or TiO $_{2}$

Cr $_{2}$ O $_{3}$ やTiO $_{2}$ を添加したAl $_{2}$ O $_{3}$ の電子照射中の組織観察