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Effect of stress and impurities on preferential amorphization on grain boundaries in polycrystalline silicon

多結晶シリコン中の粒界の照射誘起非晶質化に及ぼす応力と不純物の効果

武田 光博*; 大貫 惣明*; 渡辺 精一*; 阿部 弘亨; 楢本 洋; P.R.Okamoto*; N.Q.Lam*

Takeda, Mitsuhiro*; Onuki, Somei*; Watanabe, Seiichi*; Abe, Hiroaki; Naramoto, Hiroshi; P.R.Okamoto*; N.Q.Lam*

共有結合系物質のSi多結晶体でのイオン照射による相安定性について論ずるため、Siの結晶粒界での非晶質化過程に対する、不純物及び応力の効果について電子顕微鏡を用いて調べた結果である。引張応力の印加や不純物としてのB添加は、いずれも照射欠陥の易動度を下げて、粒界での非晶質化を抑制することを明らかにした。

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