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Relaxation of electron energy distributions and population inversion in optical-field-ionized plasmas

OFIプラズマ中での電子エネルギー分布の緩和と反転分布

匂坂 明人*; 永島 圭介; 山極 満; 的場 徹; 宅間 宏*

Sagisaka, Akito*; Nagashima, Keisuke; Yamagiwa, Mitsuru; Matoba, Toru; not registered

高出力の極短パルスレーザーを用いたX線レーザーの発振方式として光電界電離(OFI)方式がある。特に再結合型の場合、基底状態への遷移が可能なため、短波長化に有利である。このときの電子エネルギー分布は、非マクスウェル分布となっており、X線レーザーの反転分布に大きく寄与する。本研究では、OFIプラズマ中での電子エネルギー分布に注目し、分布関数の緩和過程と反転分布密度の関係を計算により評価した。水素様ヘリウムの場合において計算したところ、初期の電子分布は逆制動放射による等分化の影響を受けるが、非マクスウェル性は残っている。その後の電子-電子衝突による緩和過程をフォッカープランク方程式を用いて計算したところ、速い時間での緩和が確認された。このことからOFIによるX線レーザーの反転分布において、緩和過程が重要であると結論される。

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