Growth of carbon thin film by low-energy mass-selected ion beam deposition

質量分離した低エネルギーイオンの蒸着による炭素薄膜の生成

大野秀樹*; J.A.van-den-Berg*; 永井士郎; D.G.Armour*

not registered; J.A.van-den-Berg*; Nagai, Shiro; D.G.Armour*

XPSを搭載した低エネルギーイオンビーム蒸着装置を用いて、Si(100)基板への $^{12}$ C $^{+}$ イオンの蒸着を行った。イオンエネルギーは10eV~150eV、基板温度はRT~200 $^{circ}$ Cとし、厚さ約100nmの薄膜を作製した。XPSその場測定のほか、生成した薄膜をラマン分光及びX線回折で分析した。C $^{+}$ のイオンエネルギー80~120eV、基板温度25 $^{circ}$ C及び100 $^{circ}$ Cで90%のグラファイトと10%のダイヤモンドからなる薄膜が得られ、上記以外のエネルギーではダイヤモンドは生成せず、ダイヤモンド様炭素とグラファイトの薄膜が得られることがわかった。

no abstracts in English

発表言語	:	English
掲載資料名	:	Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
巻	:	148
号	:
ページ数	:	p.673 - 677
発行年月	:	1999/00
発表会議名	:	11th Int. Conf. on Ion Beam Modification of Materials (IBMM-11)
開催年月	:	1998/08
開催都市	:	Netherlands
開催国	:
キーワード	:	炭素薄膜; ダイヤモンド薄膜; イオンビーム蒸着; XPS; ラマン分光; X線回折

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0168-583X(98)00874-X
研究データの公開先DOI	:	本成果にかかわる研究データのリンクです。
使用施設	:
広報プレスリリース	:
論文解説 (JAEA R&D Navigator)	:
受委託・共同研究相手機関	:

Access	:	- Accesses
Web of Science® Times Cited Count	:	被引用回数：評価・統計等のため最新の被引用回数を確認したい場合は、直接Web of Science®をご確認ください。 http://www.webofknowledge.com/wos
InCites™	:	パーセンタイル：86.44 分野：Instruments & Instrumentation
Altmetrics	:

登録番号 : B19980765
抄録集掲載番号 : 270478
論文投稿番号 : 16333

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.