アンペア級水素負イオン源の連続運転

Steady-state operation of an ampere-class hydrogen negative ion source

Okumura, Yoshikazu; Hanada, Masaya; Miyamoto, Naoki*; Miyamoto, Kenji; Fujiwara, Yukio; Watanabe, Kazuhiro

セシウム添加した体積生成型負イオン源を、20mA/cm $^{2}$ の電流密度、800mAの負イオン電流のもとで連続的に運転した。負イオン生成率は600mgのセシウムを入射し、プラズマ電極の温度を250-300 $^{circ}$ Cに保持することによって4倍以上に高められるが、この状態を定常的に維持することに成功した。140時間の連続運転の後にセシウムの拡散量をICP質量分析法を用いて定量し、約90%のセシウムはプラズマ源中に保持され、プラズマ源から流出するセシウムの消費量は、3mg/時間以下と極めて少ないことがわかった。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	第9回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム (BEAMS1998)
巻	:
号	:
ページ数	:	p.101 - 104
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:	第9回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム(BEAMS1998)
開催年月	:	1998/11
開催都市	:	東京
開催国	:
キーワード	:	イオン源; 負イオン; 大電流; 高電流密度; セシウム; 体積生成型; 長パルス

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登録番号 : B19981322
抄録集掲載番号 : 270104
論文投稿番号 : 16080

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