バイアスプローブによるMINI-ECRの多価イオン生成能力向上

Improved multiply charged ion current of MINI-ECR by bias probe

多価イオンを利用することにより、TIARA400kVイオン注入器を用いてMeV級イオン注入を可能にするため、多価用ECRイオン源(MINI-ECR)の開発を行っている。MINI-ECRは主に+2価から+4価程度のイオンを生成することを目的としているが、今後より多価のイオン生成を目指したイオン源開発のために、多価イオン増強法の一つであるバイアスプローブ法をMINI-ECRで試みた。また、マイクロ波発振器の出力を10Wから20Wに増加させたものを製作しアルゴンビーム引出テストを行った。これらにより多価イオンビーム電流の増加が得られた(例Ar $^{8+}$ :0.3A3.2A)ので報告する。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	第9回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム (BEAMS1998)
巻	:
号	:
ページ数	:	p.7 - 10
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:	第9回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム(BEAMS1998)
開催年月	:	1998/11
開催都市	:	東京
開催国	:
キーワード	:	ECRイオン源; 多価イオン; バイアスプローブ

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登録番号 : B19981326
抄録集掲載番号 : 270183
論文投稿番号 : 16152

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