Formation of binary clusters by molecular ion irradiation

分子イオン照射による二成分クラスターの生成

クラスターを生成する上では、分子イオン照射は有効な手法であることが我々の現在までの研究により明らかとなっている。本法は特に、レーザーアブレーション等の従来法では生成困難な、多元素からなるクラスターの生成に特に有効と考えられる。本研究ではこの手法を応用し、C $_{6}$ H $_{6+}$ ,C $_{6}$ F $_{6+}$ 等の分子イオンをSiに照射し、Si-C二元クラスターの生成を試みた。C $_{6}$ H $_{6+}$ 照射の場合(4keV,1A/cm $^{2}$ )、生成するクラスターはSiクラスターにC原子が1個付加したSi $_{n}$ C $_{1+}$ のものが最も顕著に観測された。また、SiCの化学量論比に相当するSi $_{n}$ C $_{m+}$ (n=m)のクラスター強度は他のものに比べて低く、イオン照射によるクラスター生成において化学的安定性が支配的要因とはならないことを明らかにした。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Applied Surface Science
巻	:	169-170
号	:
ページ数	:	p.305 - 309
発行年月	:	2001/01
発表会議名	:	First Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia
開催年月	:	1999/09
開催都市	:	Tokyo
開催国	:	Japan
キーワード	:	クラスター; 分子イオン; イオン照射

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0169-4332(00)00680-2
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：78.95 分野：Chemistry, Physical
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登録番号 : B19990214
抄録集掲載番号 : 290532
論文投稿番号 : 18107

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