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Production of Ce negative ions by Cs sputter ion source

セシウムスパッタイオン源によるセリウム負イオンの生成

齋藤 勇一; Yotsombat, B.*; 水橋 清; 田島 訓

Saito, Yuichi; Yotsombat, B.*; Mizuhashi, Kiyoshi; Tajima, Satoshi

Csスパッタ負イオン源を用いて安定に酸化セリウムを生成することに成功した。セリウムを含むランタノイド系元素は蒸気圧が低く仕事関数が小さいため、Cs1次イオンを生成するアイオナイザーに付着し、そのイオン化性能を低下させる。われわれはスパッタカソードを2重構造にすることでこれを解決した。カソードに酸化セリウムを詰め、その上をタングステンで覆いそこに2mm程の穴をあけた。これにより、スパッタされるセリウムの立体角が小さくなり、アイオナイザーへの付着が少なくなった。また、タングステンによりアイオナイザー(タングステン製)の修復も同時に行われる。これにより200mA以上の負イオン電流が安定に得られた。

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