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イオンビームスパッタリング法によるNiC/Ti多層膜中性子スーパーミラーの作成とその特性

Fabrication and characterization of NiC/Ti multilayer supermirror deposited using ion beam sputtering

曽山 和彦; 鈴木 正年; 海老沢 徹*

Soyama, Kazuhiko; not registered; Ebisawa, Toru*

本研究は、Ni/Tiスーパーミラーの高反射率化を目的として、Ni膜にCを混入させることにより、Ni/Ti多層膜の界面粗さを低減させ、反射率を増加させるための多層膜作成技術の開発を目的としている。イオンビームスパッタリング法を用いて、C混入率を変化させたNiC薄膜及びNiC/Ti多層膜を作成し、X線回折法、X線光電子分析法、透過型電子線顕微鏡、中性子反射法、極微小電子線解析法によりその特性を調べた。その結果、C混入によるNi膜の微結晶化が確認されるとともに、最適C混入率が、Ni$$_{3}$$C化合物の形成される約30%と推定された。そして、最適C混入率条件でニッケルの2倍の全反射臨界角を有するスーパーミラーを作成したところ、90%以上の高反射率スーパーミラーを作成することができた。

no abstracts in English

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