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Fabrication and stability of binary clusters by reactive molecular ion irradiation

反応性分子イオン照射による二成分クラスターの生成とその安定性

山本 博之; 斉藤 健

Yamamoto, Hiroyuki; Saito, Takeru

分子イオンを固体表面に照射すると1$$mu$$A/cm$$^{2}$$程度の電流密度においても単原子イオンを照射した場合に比べてクラスター生成効率が非常に高くなることが従来までのわれわれの成果により明らかとなっている。本研究においてはこの現象を応用し、C$$_{6}$$F$$_{5}^{+}$$等の分子イオンをSi(100),B等の表面に照射することによりSi$$_{n}$$C$$_{m}$$,B$$_{n}$$C$$_{m}$$等の二成分クラスターの生成に成功した。得られたクラスターの中でも、Si$$_{n}$$C$$_{m}$$についてはいずれの原子数からなるクラスターについてもC原子を2個以上含むものはほとんど観測されなかった。これはC原子が2個以上クラスター内に含まれる場合、その構造が大きく歪むためと考えられる。一方B$$_{n}$$C$$_{m}$$ではこのような傾向は見られずほぼ任意の組成比でクラスターが得られた。以上の結果からクラスター生成において構造の安定性が大きく影響することを明らかにした。

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