Molecular beam studies of the photodissociation of benzene at 193 and 248 nm

分子線による193および248nmでのベンゼンの光分解

横山淳; X.Zhao*; E.J.Hintsa*; R.E.Continetti*; Y.T.Lee*

not registered; X.Zhao*; E.J.Hintsa*; R.E.Continetti*; Y.T.Lee*

レーザー・分子線交差法により193および248nmでのベンゼン(C $_{6}$ H $_{6}$ )の光分解過程を研究した。一光子吸収の結果、193nmではH脱離(C $_{6}$ H $_{5}$ +H)、H $_{2}$ 脱離(C $_{6}$ H $_{4}$ +H $_{2}$ )、CH $_{3}$ 脱離(C $_{5}$ H $_{3}$ +CH $_{3}$ )の三つの分解反応が、248nmではH $_{2}$ 脱離、CH $_{3}$ 脱離の二つの分解反応が競争的に起こることを見出した。また、これらの反応はベンゼンの電子励起状態( $^{1}$ B $_{1u}$ または $^{1}$ B $_{2u}$ )からの内部転換によって生成する振動励起した基底状態ベンゼンを経由して起こることがわかった。さらに二光子吸収による二つのC $_{3}$ H $_{3}$ への解離および多くの二次光分解反応も観測された。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Chemical Physics
巻	:	92
号	:	7
ページ数	:	p.4222 - 4233
発行年月	:	1990/04
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Benzene; Photodissociation; Molecular Beam; Laser

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1063/1.457780
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：94.83 分野：Chemistry, Physical
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登録番号 : A19890257
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 9862

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