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Molecular motion of several epoxy resins and influence of electron irradiation

種々のエポキシ樹脂の分子運動性と電子線照射の影響

貴家 恒男; 宇田川 昂

Sasuga, Tsuneo; Udagawa, Akira

ジアミノジフェニルメタン(DDM)で硬化したビィスフェノールA系(DGDBA/DDM)、ビィスフェノールF系(DGEBF/DDM)、テトラグリシジル系(TGDDM/DDM)エポキシ樹脂ならびにジアミノジフェニルスルホン(DDS)で硬化したTGDDM/DDSをマトリックスとした炭素繊維強化材料(CFRP)の分子運動性に及ぼす電子線照射効果を検討した。すべてのエポキシ樹脂に、50~100$$^{circ}$$Cの温度範囲で力学損失ピーク($$gamma$$分散)か認められた。ガラス転移温度以上の熱処理の結果から、この分散は架橋点により運動を制限された分子鎖の運動に帰属され、硬化時に内部歪みが生じていることが分かった。また、四官能性のTGDDM/DDM・DDS樹脂の内部歪みは二官能性$$alpha$$DGEBA/DDM、DGEBF/DDMにくらべて大きいことが明らかとなった。照射による損傷は主鎖切断が主であり、放射線に対する安定性の序列としてTGDDM$$>$$DGEBF$$>$$DGEBAが得られた。

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パーセンタイル:82.74

分野:Polymer Science

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