7.1.5.イオンビームによる薄膜生成

7.1.5. Preparation of thin films by ion beam technology

イオンビームを用いた最近の薄膜生成法について解説した。特に、イオンビームスパッタ蒸着法とイオンビーム蒸着法について、膜生成の簡単な原理を示し、さらに、実際に利用されている材料とその応用分野について示した。又、近年、新物質創生によく利用されているダイナミカルミキシング法について解説を行なった。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	放射線応用技術ハンドブック
巻	:
号	:
ページ数	:	p.526 - 544
発行年月	:	1990/11
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開催国	:
キーワード	:	イオンビーム; スパッタリング; 蒸着膜; ミキシング

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登録番号 : A19900119
抄録集掲載番号 : 190482
論文投稿番号 : 10391

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