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Formation of a thin film of poly(octadecyl methacrylate) using the physical vapour deposition technique

真空蒸着法により形成されたポリオクタデシルメタクリレート薄膜

玉田 正男; 浅野 雅春; 吉田 勝; 熊倉 稔*

Tamada, Masao; Asano, Masaharu; Yoshida, Masaru; Kumakura, Minoru*

オクタデシルメタクリレートを赤熱したタングステンフィラメント存在下で蒸着することにより、基板上でラジカル重合が起こることが見い出された。重合収率はフィラメント温度の上昇、蒸着速度の減少、基板温度の上昇により増加した。蒸着速度の低いこと、及び280K以下の基板温度範囲では温度が高くなることが、蒸着薄膜を形成する分子の配向に重要であることが分った。また、蒸着膜をアニールすることにより、LB膜のX型の構造を有する薄膜が得られた。

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パーセンタイル:58.46

分野:Polymer Science

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