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ac magnetic-flux penetration in a sample disk-type sintered Bi$$_{2}$$Sr$$_{2}$$CaCu$$_{2}$$O$$_{x}$$ under low magnetic fields applied by a planar coil

平面コイルによる低磁場下でのデスク状Bi$$_{2}$$Sr$$_{2}$$CaCu$$_{2}$$O$$_{x}$$焼結試料への交流磁束の侵入

荒 克之; 片桐 政樹; 伊藤 博邦; 坂佐井 馨  

Ara, Katsuyuki; Katagiri, Masaki; Ito, Hirokuni; Sakasai, Kaoru

10kHzの交流励磁界でのデスク状Bi系焼結試料の交流磁束侵入特性を72kで測定した。交流励磁には試料にとりつけた平面コイルをまた侵入磁束の検出には試料のウラ側にとりつけた平面コイルをそれぞれ用いた。測定結果は興味ある非線形の磁束侵入特性を示した。交流励磁がある強さになるまでは磁束の侵入はゼロで、あるところで急に侵入が開始されて急激に増大し飽和値に達する。磁束の侵入が開始されるところの励磁界はH$$_{cl}$$と関係があると考える。交流励磁に直流励磁を重ねると、直流励磁界の増大とともに交流励磁による交流磁束の侵入が開始されある飽和値に達する。その後、直流励磁をゼロにしても交流磁束の侵入は保持される。これは直流磁束のピンニングが行れ、直流磁束が残留するためと考える。

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パーセンタイル:0.04

分野:Physics, Applied

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