Ripple-trapped loss of neutral-beam-injected fast ions in JT-60U

JT-60UにおけるNB入射高速イオンのリップル捕捉損失

飛田 健次; 谷 啓二; 閨谷 譲; A.A.E.VanBlokland*; 三浦 早苗*; 藤田 隆明; 竹内 浩; 西谷 健夫; 松岡 守; 武智 学*

Tobita, Kenji; Tani, Keiji; Neyatani, Yuzuru; A.A.E.VanBlokland*; not registered; Fujita, Takaaki; Takeuchi, Hiroshi; Nishitani, Takeo; Matsuoka, Mamoru; not registered

JT-60U第一壁面の熱負荷を測定し、中性粒子入射によって供給された高速イオンのトロイダル磁場リップルに帰因する粒子損失を調べた。その熱負荷はトロイダル/ポロイダル両方向に局在化し、リップル率または安全係数の増大に伴って増加した。リップル損失の実験値は、軌道追跡モンテカルロ計算と良く一致した。しかしながら、熱負荷が最大となる位置を、実験と計算とで比較すると、両者にはわずかな差異が認められた。この結果は、リップル捕捉イオンの軌道が、プラズマ中の径方向電場によって偏向されていることを示す。

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