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ラジオルミノグラフィによる半導体表面の評価

Evaluation of semiconductor surfaces by radioluminography

村岡 久志*; 柴部 禎巳; 野崎 正*; 奥村 勝弥*

not registered; Shibabe, Sadami; not registered; not registered

ラジオルミノグラフィは輝尽性蛍光体層をもつイメージング・プレートに放射線画像を記憶させ、読取機でデジタル画像データとしてコンピュータ・ディスクに読み込み、画像化と定量解析をおこなう新しいオートラジオグラフィである。シリコン・ウェーハへの$$^{59}$$Feと$$^{64}$$Cuの吸着とこれらの吸着不純物にたいするSC-1(NH$$_{4}$$OH,H$$_{2}$$O$$_{2}$$,H$$_{2}$$O,1:1:5)洗浄の評価にこの方法を適用した。吸着ラジオアイソトープと洗浄後の残存物の分布状態が一目でわかるようになった。ウェーハ上の任意の位置の任意面積のラジオアイソトープ濃度を、検出限界10$$^{8}$$atom/cm$$^{2}$$オーダ、ダイナミックレンジ10$$^{4}$$以上で定量できることがわかった。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

表面科学

巻

 :

14

号

 :

5

ページ数

 :

p.288 - 294

発行年月

 :

1993/07

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

半導体; 表面評価; $$^{59}$$Fe; $$^{64}$$Cu; ラジオルミノグラフィ

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1380/jsssj.14.288

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

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