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Effects of concurrent irradiation with ions and electrons on accumulation process of damage cascades in germanium and silicon

ゲルマニウム及びシリコン中のカスケード損傷の蓄積過程に及ぼすイオン・電子同時照射効果

阿部 弘亨; 木下 智見*; 傳田 康貴*; 園田 健*

Abe, Hiroaki; Kinoshita, Chiken*; not registered; not registered

原子炉材料の照射損傷を評価するために、加速器結合型超高圧電子顕微鏡を用いた、イオン・電子同時照射を行い、カスケード損傷と点欠陥との相乗効果について明らかにした。イオン照射により、Si,Ge中には、カスケード損傷に対応した白いドット状コントラストが観察された。その密度は、照射時間とともに増大し、そしてある飽和値に達した。速度方程式を用いた解析により、カスケードはオーバーラップすることによりコントラストを呈すること、電子照射によってカスケードの蓄積が抑制されること、が判明した。同時電子照射により形成された点欠陥やその照射誘起拡散によって、カスケードが消滅することが示された。

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