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YBa$$_{2}$$Cu$$_{3}$$O$$_{x}$$ films irradiated by 120MeV oxygen ions

120MeV酸素イオンで照射したYBa$$_{2}$$Cu$$_{3}$$Ox膜

数又 幸生; 岡安 悟  ; 有賀 武夫

not registered; Okayasu, Satoru; not registered

YBa$$_{2}$$Cu$$_{3}$$Ox膜に酸素イオンを照射して、超電導特性の変化を調べた。照射量1.3$$times$$10$$^{14}$$O$$^{+}$$/cm$$^{2}$$迄、臨界温度に変化はなかった。しかしヒシテリシス曲線から求めた$$Delta$$M及び不可逆曲線は、大きく変化した。照射による帯磁率の減少を、磁束侵入長の増加として解釈した。磁化の時間緩和から磁束の運動に対する活性化エネルギーを算出した。照射による活性化エネルギーの減少と$$Delta$$Mの減少との間に相関性を見い出した。

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分野:Physics, Applied

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