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Decarbonylation of adamantan-2-one by two-photonic excitation with XeCl laser

XeClレーザーによる2-アダマンタノンの2光子励起脱カルボニル反応

一ノ瀬 暢之; 河西 俊一

Ichinose, Yuji; Kawanishi, Shunichi

シクロヘキサン中2-アダマンタノンにXeClレーザー光(308nm)を照射すると徐々に消失し、ノルアダマンタンが生成した。この反応のレーザー光強度依存性を調べたところ、原料消失量とノルアダマンタン生成量は光強度の2乗に比例し、2光子吸収によって反応が誘起されることが分かった。また、ノルアダマンタンの生成は、185nmランプ光による高次励起状態への1光子励起によっても認められたが、254nmランプ光による最低励起状態への1光子励起によっては認められなかった。XeClレーザー光による反応において、三重項消光剤であるビフェニルの添加によって原料消失およびノルアダマンタン生成はまったく影響を受けなかった。これらのことにより本反応は、高次励起一重項状態を経て進行するものと結論した。

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