大電流イオンビームの先端的応用

Advanced applications of high current ion beams

奥村 義和; 佐藤 忠*; 登木口 克己*; 緒方 潔*; 松田 耕自*

Okumura, Yoshikazu; not registered; not registered; not registered; not registered

最近の大電流イオンビーム生成技術の進展と、その応用研究について紹介する。これまでイオンビームの応用は数十keV程度のエネルギーを持つ正イオン源によるものに限定され、半導体へのイオン注入などイオンを不純物として利用する用途が主であった。一方、核融合炉の実現にむけて数eVの超低エネルギーからMeV級のビームエネルギーに至る広いエネルギー範囲のイオン源、アンペア級のイオンビームを定常的に安価に発生する技術、大電力負イオン源などの研究開発が進められている。これらの新技術はイオン工学の可能性を大きく広げるほか、照射するイオンそれ自身を構造材とした新素材や機能性薄膜などの製造、イオンミリングなどイオンを用いた加工技術などの、広い応用分野を拓くことが期待される。

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