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原研マイクロビーム技術とその応用の現状と展望

The present and future of JAERI microbeam techniques and their applications

田中 隆一; 神谷 富裕; 須田 保*

Tanaka, Ryuichi; Kamiya, Tomihiro; Suda, Tamotsu*

原研、マククロビーム形成技術についての報告である。軽イオンによる、高分解能イオンビーム分析のための、サブミクロンマイクロビーム形成装置は、3MVシングルエンド加速器により加速されたイオンを、現在、0.4$$times$$0.4$$mu$$m$$^{2}$$ 77pA(2MeV He)まで、絞り込みを行った。一方、タンデム加速器による重イオンマイクロビームは、15MeV、Ni$$^{4+}$$において、1.0$$times$$0.8$$mu$$m$$^{2}$$のビーム径を達成し、現在、半導体(シングルイベント)実験に使用されている。この報告において、マイクロビーム装置の概要及び、形成方法についてと、マイクロビームのこれからの応用と新展開について述べる。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

日新電機技報

巻

 :

40

号

 :

2

ページ数

 :

p.95 - 101

発行年月

 :

1995/07

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

イオンビーム分析; マイクロビーム; 軽イオン; サブミクロン; シングルエンド; タンデム; 重イオン; シングルイベント

特許データ

 :

PDF

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広報プレスリリース

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