Shimizu, Yuichi; Kawanishi, Shunichi
窒素飽和したDL-酒石酸に高強度XeFレーザー(351nm)からの集光した右円偏光を照射すると、L-酒石酸の濃度は吸収エネルギーが増加するとともに著しく減少し、1
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Jの照射での減少率は約13.9%であった。一方、D-酒石酸の濃度は照射によってもほとんど変化しなかった。L-酒石酸濃度の減少から求めたD-酒石酸のエナンチオマー過剰率は約7.5%であった。このように、高強度の右円偏光レーザー光を用いると、DL-酒石酸からD-酒石酸を効率よく濃縮できることがわかった。このような反応が起こるのは、酒石酸の多光子吸収過程を経る脱カルボキシルなどの分解反応が偏光性に依存するためであると考えられる。
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使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 0 |
号 |
: | 7 |
ページ数 |
: | p.819 - 820 |
発行年月 |
: | 1996/04 |
キーワード |
: | レーザー有機化学; 光学分割; XeFレーザー; 円偏光レーザー光; 集光レーザー光; DL-酒石酸; L-酒石酸; エナンチオマー過剰率; 光分解; 多光子吸収 |
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論文解説記事 |
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