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Effect of fluence of He$$^{+}$$ ions on fluorescence intensity of triphenylmethyl radical

トリフェニルラジカルの発光強度に対するHe$$^{+}$$イオンのフルエンス効果

田口 光正; 南波 秀樹; 青木 康; 永井 士郎; 平塚 活士*

not registered; Namba, Hideki; Aoki, Yasushi; Nagai, Shiro; not registered

トリフェニルメタン類を含む高分子フィルムにイオン注入器からのHe$$^{+}$$イオンと、N$$_{2}$$レーザーからの紫外光を同時照射した。その結果、500から600nmにかけて、振動構造を持つ発光スペクトルが得られ、トリフェニルメチルラジカルの生成が確認された。この発光の強度はイオンのフルエンスを変化させた時には、2$$times$$10$$^{12}$$ions/cm$$^{2}$$までは増すが、それ以上では減少することが分かった。この現象を理解するために簡単なモデルをたて、シミュレーションを行ったところ、イオンのトラック半径を3.5nmとした時に実験結果とよく一致することが分かった。

no abstracts in English

発表言語

 :

English

掲載資料名

 :

Radiation Physics and Chemistry

巻

 :

49

号

 :

2

ページ数

 :

p.253 - 256

発行年月

 :

1997/00

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

He$$^{+}$$イオン; 発光; トリフェニルメチルラジカル; フルエンス; シミュレーション; N$$_{2}$$レーザー; トラック半径

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1016/S0969-806X(96)00087-4

研究データの公開先DOI

 :

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使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説
(JAEA R&D Navigator)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：29.66

分野：Chemistry, Physical

Altmetrics

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