マイクロ波イオン源における出射エネルギーに対するチャンバー内雰囲気の影響

Influence of vacuum conditions at a target chamber to the energy of ion beams extracted from a microwave discharge ion source

佐藤 進*; 有屋田 修*; 鈴木 敏洋*; 荻原 徳男

not registered; not registered; not registered; Ogiwara, Norio

我々は現在、低エネルギーイオンと第一壁材との相互作用を調べる目的で、1keV以下のエネルギーで高輝度なイオンビームを開発中である。今回、イオン源の出射エネルギーと真空雰囲気の関係について検討した。イオン源はマイクロ波放電型である。イオン電流はファラデーカップを用いて測定した。高ガス圧力、広面積ビームの条件下では、イオンエネルギーは低エネルギー側へシフトし、加速電圧近傍のエネルギーを有するイオンは観測されなかった。これは、ガスの平均自由行程を考慮した衝突では説明できない。実験の結果、真空容器内の残留ガスに、イオン源から出射されたイオンビームが衝突し、希薄なプラズマが生じ、このプラズマがイオンビームをトラップしていると、推論された。

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