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Vortex pinning in Bi$$_{2}$$Sr$$_{2}$$CaCu$$_{2}$$O$$_{8}$$ tapes irradiated by ions

イオン照射したBi$$_{2}$$Sr$$_{2}$$CaCu$$_{2}$$O$$_{8}$$の磁束ピン止め

数又 幸生*; 熊倉 浩明*; 戸叶 一正*

not registered; not registered; Togano, Kazumasa*

タンデム加速器からの重イオン、230MeV Au$$^{14+}$$及び120MeV O$$^{7+}$$イオン、をBi-2212テープ材に照射した。この照射によって生成した円柱状欠陥及び点欠陥による磁束のピン止め状態を調べた。残留磁化及び臨界電流密度は照射によって大幅に増加した。特に照射方向と垂直な方向においても臨界電流密度の増加が観測されたことは特徴的である。この増加をCuO$$_{2}$$面を横切るkinkの運動として解釈した。不可逆磁場の方位依存性の測定から、円柱状欠陥に捕らえられている磁束は、直線的(3次元的)であるとの結論に達した。点欠陥による不可逆磁場はスケール則に従っていた。結論として、磁束の3次元から2次元への転移は、欠陥構造によって大きく左右されることを指摘した。

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パーセンタイル:34.44

分野:Materials Science, Multidisciplinary

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