Shimizu, Yuichi; Kawanishi, Shunichi
過酸化水素の存在下でアクリル酸の水溶液を高強度のXeFレーザー光(351nm)で照射することによる乳酸の新規な直接合成法について述べる。乳酸の収量はレーザー光の照射量と過酸化水素の添加速度に大きく依存し、最大収量での乳酸生成の量子収率と選択率はそれぞれ0.3および50%であった。生成物分析の結果から、過酸化水素のレーザー光分解で高密度に生成したOHラジカルはアクリル酸の
と
位の炭素に均等に付加して、乳酸とヒドロアクリル酸を1:1で生成することがわかった。
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使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 0 |
号 |
: | 11 |
ページ数 |
: | p.935 - 936 |
発行年月 |
: | 1996/11 |
キーワード |
: | レーザー光化学反応; 有機光合成; XeFレーザー; アクリル酸; 過酸化水素; 乳酸; 直接合成; 量子収率; 選択率; 反応機構 |
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論文解説記事 |
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